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연세소식

[연구 프론티어] 연세대학교-삼성SDI 산학 공동연구팀, 반도체 제조 공정에서 나노 패턴을 구현할 수 있는 실리콘 신물질 개발

연세대학교 홍보팀 / news@yonsei.ac.kr
2015-02-16

 

연세대학교-삼성SDI 산학 공동연구팀, 반도체 제조 공정에서 나노 패턴을 구현할 수 있는 실리콘 신물질 개발

 

학부대학 조현모 교수와 화학및의화학과 이명의 교수, 삼성SDI 연구팀은 산학 공동 연구를 통해, 나노 사이즈의 반도체 패턴을 구현할 수 있는 새로운 실리콘 재료를 개발했다. 반도체의 집적화 및 미세화가 산업적/학술적으로 진행되는 가운데, 이의 실현을 위한 각 전문 분야들의 다양한 접근들이 시도되고 있는 가운데 나온 연구성과이다.

먼저, 우리 대학교 연구팀에서 새로운 육각고리 모양의 실리콘 화합물을 개발했다. 이를 고분자 화합물로 전환하여 193nm의 빛을 사용하는 현재 반도체 공정에 적합한지를 검증하였다. 삼성SDI에서 이 물질을 이용하여 실리콘 웨이퍼 위에 150nm의 박막을 적층하고 이의 광학 특성과 식각 특성을 확인하여 이 물질의 유용성을 확인하였다. 현재까지 광학 특성을 보이는 물질로 유기물(벤젠 등)을 포함하는 실리콘 물질이 사용되었으나, 본 연구에서는 실리콘 육각 고리 화합물이 193nm 빛을 효과적으로 흡수한다는 것을 발견하고 이의 박막 코팅까지 구현했다. 이에 벤젠 등의 탄소 개수가 많은 물질을 배제한 새로운 실리콘 발색단 물질을 찾아내어 보다 순도높은 실리콘 박막을 제조할 수 있게 되었다.

학술적 창의성뿐만 아니라 산학공동 연구의 밀착성을 보여준 이번 연구결과는, 국제적으로 저명한 영국왕립화학회의 재료화학분야 출판물인 “Journal of Materials Chemistry C” 2015년 1월호에 게재되었다. 논문 제목은 “Soluble polycyclosilane–polysiloxane hybrid material and silicon thin film with optical properties at 193 nm and etch selectivity”이다.

 

vol. 574
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